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    领先对手3年 Intel 10nm工艺等效对手7nm

      [  中关村在线 原创  ]   作者:赵鑫喆   |  责编:赵鑫喆

      关注硬件的朋友们都知道,Intel的10nm工艺CPU即将蓄势待发,而Intel今天在中国举办“精尖制造日”活动中对将至的10nm Cannon Lake芯片做了讲解。

    领先对手3年 Intel 10nm工艺等效对手7nm

      Intel执行副总裁兼制造、运营与销售集团总裁Stacy Smith首次展示了10nm晶圆,其将被用来制造Cannon Lake芯片。

      Intel表示,自家10nm FinFET拥有世界上最密集的晶体管和最小的金属间距,实现了业内最高的晶体管密度,领先其他10nm整整一代。

    领先对手3年 Intel 10nm工艺等效对手7nm

      之所以这么说,是因为Intel对于制程的命名是业界最保守也是最权威的,Intel称三星、台积电的10nm不过相当于自家的14nm,而全新的10nm则是同两家的7nm差不多。从90nm开始到14nm,Intel基本保持对行业的3年领先。

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    vga.zol.com.cn true http://vga.zol.com.cn/656/6563411.html report 592   关注硬件的朋友们都知道,Intel的10nm工艺CPU即将蓄势待发,而Intel今天在中国举办“精尖制造日”活动中对将至的10nm Cannon Lake芯片做了讲解。  Intel执行副总裁兼制造、运营与销售集团总裁Stacy Smith首次展示了10nm晶圆,其将被用来制造Cannon...
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